该晶圆加工厂设在西北位置，注意生孩子85英寸光电器件晶圆，平均废水处理污染物量约800吨。原因生孩子的时候中采用丰富盐酸去晶圆蚀刻，引起废水处理中氟化物氧浓度万代高达200-300mg/L，远超发达国家污染物标准的（10mg/L下例）。 废水处理工艺组分及因素 生产废水主要的发源这几个关键点： 晶圆蚀刻工艺 ：含高质量浓度氟化物（HF）、硝酸铵及极富高价属 化学工业机械厂打磨（CMP）污水 ：含納米级硅粉末、充分络合剂 机械设备洗掉污废水 ：含异丙醇、挥发酚等生产物 治疗技术流量 分为"检查是否沉垫+沥青混凝土沉垫+厚度过滤程序"三阶段解决体统： 二级处里 ：加药氯化钙和氢腐蚀钙，养成氟化钙发展，氟化物去掉率达85% 一级治理 ：放入PAC（整合氯化铝）和PAM（聚丙酰胺），剔除悬浊液态环境破坏物 两级处里 ：采用多导电介质过滤程序器和特异性炭物理吸附，水流氟化物质量浓度平衡在8mg/L这 要素的设备属于：pH主动可以调节控制系统、斜管沉淀物中池、板框淤泥压滤机（淤泥脱水现象）。 决定性成效 产品进行3年探测资料显示信息： 氟化物的平均酸度：7.2mg/L（少于欧洲规范化） COD去掉率：92% 废水含水量率：≤65% 年再进行氟化钙副物料约150吨，控制环境污泥处置进行