某光电器件生成企业主因晶圆洁净工步生成含氨电镀废水，出水量200吨/天。电镀废硫酸铜溶液除氧化还原电位外还内含氟化物和轻微血本属，办理分值大。当地政府污染物规则需要氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理部分及从何而来 晶圆除垢废水处理（最主要的渠道）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀繁琐流程污水：含轻微铜、镍等巨资属，pH值波动性大 CMP研磨机废气：含硅颗料及高锰酸盐指数 处理工艺设计流程 用于"电化学积淀+膜隔离+折点氯化"结构制作工艺： 预加工 ：加药CaCl2除氟，抑制pH在7.5-8. 超滤膜整体 ：避开0.01μm左右颗粒肥料物 超滤法精浓 ：将化学需氧量浸提至1000mg/L上面 折点氯化 ：精度保持氯添加量，将化学需氧量应用为氦气 阴阳离子交易 ：保障措施血本属不合格 不可能作用 挥发酚增强＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属量超过查重限 水回收率达75% 生活污水存在量减小40%