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半导体芯片加工废水处理案例|半导体芯片加工废水处理方法

新项目背景图片 该制造业园聚积了十余家光电器件对应厂家主,制定日工作效率5000吨,必须要 工作产自不同厂家主的相溶化工化工废水。会因为各厂家主的生产流程设备不同大,化工化工废水含量繁杂变幻,工作一定难度较高。 生产废水有效成分及特征 电镀工业鑫霖环保重要及及3个类:高渗透压有机酸物电镀工业鑫霖环保(光刻胶、定影液等)、含氟电镀工业鑫霖环保(刻蚀工艺)和酸碱度电镀工业鑫霖环保(难以清理工艺)。特殊性组成成分及及异丙醇、四甲基氢阳极氧化铵等难化学降解有机酸物物,及及氟化物、高锰酸盐指数等硅化物破坏物。电镀工业鑫霖环保COD上下波动大(500-3000mg/L),氟化物渗透压100-500mg/L,高锰酸盐指数50-150mg/L。 解决技术流程图 进行"各类采集+分质治理+密集进一步治理"的的创新方法: 公司内外划分类别预清理:含氟化工废水直接处置并预清理 园区规划供水管道定义输料模式 融合调整池动态平衡水质量 有级混凝土沉定彻底清除漂浮物和固体 高效化生物制品表现器(HBR)治理 有机物污染问题物 老化崔化氧化的生物降解难拆分有机的物 反加入机系统通过脱盐工作 紫外光线清洁抓好留水安全的 尤为如何设置了一直在线评估软件和智能加量软件,积极应对生活饮用水下跌。 从而结果 系统性电脑运行三年期来,处里治疗效果稳定性安全。留水COD<30mg/L,氟化物<3mg/L,高锰酸盐指数<5mg/L,总氮<15mg/L,完成地面水Ⅳ类标准规定,个部分循环于开发区绿化带及冷却后塔保湿补水,循环率多于30%。历年削减鲜新水选择约10万吨,为开发区企业的最省有水费千余百万元。

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